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等離子去膠機(jī)是半導(dǎo)體、電子制造及材料科學(xué)領(lǐng)域中用于去除表面有機(jī)殘留(如光刻膠、聚合物)的關(guān)鍵設(shè)備，其核心原理是通過(guò)等離子體中的活性粒子與材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或物理轟擊，實(shí)現(xiàn)高效、無(wú)損傷的清潔。選擇合適的設(shè)備需綜合評(píng)估處理需求、樣品特性、操作效率及長(zhǎng)期使用成本，以下從核心要素展開分析。一、明確處理需求與目標(biāo)等離子去膠機(jī)的選擇依據(jù)是處理對(duì)象的特性與目標(biāo)。用戶需先明確以下問(wèn)題：污染物類型：若需去除光刻膠、抗反射層等有機(jī)物，需選擇氧等離子體設(shè)備，其活性氧離子可高效分解碳鏈結(jié)構(gòu)；若為金...
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等離子體處理對(duì)于聚丙烯微流控芯片粘接強(qiáng)度的影響聚丙烯（Polypropylene，PP）材料是一種熱塑性半結(jié)晶塑料，其具有價(jià)格低廉、易于加工成型以及生物兼容性良好等優(yōu)點(diǎn)，因此PP可以被用于微流控芯片的加工制作。微流控芯片是將通道、反應(yīng)池等功能模塊集成在微米尺度的一種微流體操作平臺(tái)。等離子體處理是利用等離子體中的高能態(tài)粒子打斷聚合物表面的共價(jià)鍵，等離子體中的自由基則與斷開的共價(jià)鍵結(jié)合形成極性基團(tuán)，從而提高了聚合物表面活性。于此同時(shí)，等離子體對(duì)高分子聚合物表面存在物理刻蝕作用，導(dǎo)...
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單層MoS2光電探測(cè)器的制備和性能調(diào)控二維過(guò)渡金屬硫化物(2D-TMDS)材料(如M0S2、WS2、SnS2NbS2)具有優(yōu)異的光學(xué)、電學(xué)、光電學(xué)、力學(xué)等性能，材料厚度為0.1?Inm,具有理想的半導(dǎo)體帶隙(1.5-2.1eV),以及強(qiáng)烈的光-物質(zhì)相互作用，成為下一代微型、高靈敏度、高穩(wěn)定、透明性的光電探測(cè)器的理想材料。對(duì)單層MoS2光電探測(cè)器進(jìn)行氧等離子處理，氧等離子處理工藝是：將制備出的單層MoS2光電探測(cè)器放置于低溫氧等離子環(huán)境中，氧等離子體機(jī)的放電功率均設(shè)置為10W,...
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TiO2/二維(ReS2,GeTe)薄膜異質(zhì)結(jié)光催化劑制備及光電催化性能研究PLUTO-T型等離子清洗機(jī)適合在大學(xué)實(shí)驗(yàn)室和研究機(jī)構(gòu)使用的實(shí)驗(yàn)室桌面型等離子清洗機(jī)。性能穩(wěn)定，操作方便，參數(shù)響應(yīng)反饋及時(shí)，深得科研人員的喜愛(ài)和贊同。浙江大學(xué)客戶使用PLUTO-T型等離子清洗機(jī)發(fā)表了論文。（1）采取球磨與超聲液相輔助剝離法制備二維層狀ReS2納米片，所制得的納米片尺寸約為200nm，厚度小于10nm。通過(guò)滴涂法工藝在一維TiO2垂直納米棒（NRs）陣列薄膜上涂覆ReS2納米片制備Ti...
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